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DeepSeek确实使用了寒武纪的芯片,这一点已经得到确认。寒武纪作为国产AI芯片领域的领军企业,为DeepSeek提供了定制化的训练芯片,这些芯片广泛应用于DeepSeek的算力基础设施中,尤其是在模型训练阶段。寒武纪芯片的适配能力和软硬件协同优化能力为双方的合作提供了重要支撑。
此外,寒武纪的芯片产品覆盖云、边、端全场景,并支持训练与推理融合,这与DeepSeek对高效算力的需求高度契合。因此,除了芯片供应,双方的合作还涵盖了技术协同和生态共建等多个方面。
总之,DeepSeek与寒武纪的合作不仅体现在硬件供应上,更在于通过技术协同和生态共建,共同推动AI技术的发展和应用。
### 芯片制程发展历程
自1971年英特尔推出4004处理器以来,芯片制程技术经历了显著的进步。以下是各个关键时间节点的总结:
#### 早期发展
- **1971年**:英特尔推出了4004处理器,采用10微米制程。
- **1974年**:制程缩小至6微米。
- **1978年**:美国制造了第一台g线光刻机DSW4800,实现了3微米制程。
- **1982年**:制程进一步缩小到1.5微米。
- **1985年**:中国推出了首台g线光刻机,同时全球制程达到了1微米。
#### 进一步精细化
- **1987年**:制程达到800纳米。
- **1990年**:制程提升至600纳米。
- **1993年**:350纳米制程实现。
- **1996年**:250纳米制程问世。
- **1999年**:180纳米制程成为现实。
#### 突破性进展
- **2001年**:制程进入130纳米阶段。
- **2003年**:90纳米制程实现,同年ASML与台积电联合制造了样机沉浸式光刻机TAT:1150i。
- **2005年**:65纳米制程面世。
- **2007年**:45纳米制程量产,ASML与台积电联合推出的TXT:1900i光刻机投入生产。
#### 高端技术引入
- **2009年**:32纳米制程实现。
- **2012年**:22纳米制程推出。
- **2014年**:14纳米制程达成,同年ASML交付了首台量产版EUV光刻机NXE3300B。
- **2016年**:10纳米制程实现。
- **2018年**:7纳米制程问世。
- **2020年**:5纳米制程正式商用。
通过这些时间节点可以看出,芯片制程技术在不断进步,从最初的微米级别逐渐向纳米级别迈进,并且随着光刻技术的发展,如沉浸式光刻和EUV光刻机的应用,使得更精细的制程成为可能。
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